воскресенье, 11 августа 2013 г.

Art of Failure

Теперь прибавился к известным мне квази-научным фотоконкурсам конкурс Art of Failure.

Конкурс проводится в рамках международного симпозиума IEEE по физическому анализу и анализу отказов интегральных полупроводниковых схем (IEEE International Symposium on the Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits). На этом конкурсе представляются имеющие художественную ценность фотографии необычных объектов и явлений, которые возникают на кристаллах микросхем и других полупроводниковых приборов, возникшие в результате неисправности или выхода из строя этих кристаллов.

  • Именно эту картину увидел на изображении, снятом электронным развертывающим микроскопом, Лим Сав Синг (Lim Saw Sing), сотрудник компании Infineon Technologies, рассматривая поверхность полимидного кристалла, подвергнутого процессу ионного травления. Этот снимок занял первое место в конкурсе Art of Failure 2012.

  • Мембрана из специального материала "прилипла" к коротким частям из углеродной ленты, формируя подобие странного и необычного "леса" на этом изображении с микроскопа. Данный снимок сделал Лим Чен Вэй (Lim Chan Way) из компании Infineon Technologies.

  • Аналитики компании Advanced Micro Devices посчитали, что данная структура на поверхности кремниевой подложки очень смахивает на слона в головном уборе. Фотография так же принадлежит Жаклин Ква (Jacqueline Kwa) из компании AMD.

  • Проводя свои исследования, инженеры компании WinTech Nano-Technology создали эти 20-микронные структуры из меди, используя технологию нанопроизводства с использованием сфокусированного ионного луча. Фотогорафия Ху Бинг Шен из компании WinTech Nano-Technology.